Atomic Layer Deposition (ALD)
Strumentazione per la deposizione di singoli strati atomici per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore
Edificio
U5; 0; T047
Dipartimento
Responsabile scientifico
Voci tariffario
Sito tariffario
Immagine
Pubblicazioni
- Tseberlidis, G; Di Palma, V; Trifiletti, V; Frioni, L; Valentini, M; Malerba, C; Mittiga, A; Acciarri, M; Binetti, S (2023) Titania as Buffer Layer for Cd-Free Kesterite Solar Cells. Dettaglio
- Di Palma, V; Pianalto, A; Perego, M; Tallarida, G; Codegoni, D; Fanciulli, M (2023) Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of IrO2 for Neuroelectronics. Dettaglio