Atomic Layer Deposition (ALD)

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Strumentazione per la deposizione di singoli strati atomici per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore

Edificio
U5; 0; T047
Dipartimento
DIPARTIMENTO DI SCIENZA DEI MATERIALI
Responsabile scientifico

FANCIULLI MARCO

Voci tariffario
G.5
https://drive.google.com/file/d/1o51rs7Cp8_m6obTxgsMaLGSE7B093iut/view?usp=shar…
Sito tariffario
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Pubblicazioni

  • Di Palma, V; Pianalto, A; Perego, M; Tallarida, G; Codegoni, D; Fanciulli, M (2023) Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of IrO2 for Neuroelectronics. Dettaglio
  • Tseberlidis, G; Di Palma, V; Trifiletti, V; Frioni, L; Valentini, M; Malerba, C; Mittiga, A; Acciarri, M; Binetti, S (2023) Titania as Buffer Layer for Cd-Free Kesterite Solar Cells. Dettaglio