Sputter Magnetron Gencoa SW200-E

Sputter in RF, DC e DC pulsata per la deposizione di film sottili di ossidi conduttivi (AZO), i-ZnO e di molibdeno tramite sputtering su substrati di area massima di 10x10 cm².
Distanza substrato-target: circa 7 cm
Spessore substrati: testato da 0.1 mm a 2.2 mm
Possibilità di scaldare il substrato: Sì
Temperatura max riscaldamento: NP
Spessore AZO con ricetta ottimizzata: circa 300 nm (in DC pulsata)
Spessore i-ZnO con ricetta ottimizzata: circa 60 nm (in RF)
Spessore Mo con ricetta ottimizzata: circa 1.1 micron (in DC non pulsata)
Spessori minimi raggiungibili per ciascuno: circa 10 nm per essere sicuri che il substrato sia del tutto coperto e lo strato sia continuo.
Per ulteriori informazioni visitare il sito internet del Centro MIB-SOLAR: https://mibsolar.unimib.it/servizi-per-aziende-e-centri-di-ricerca/